Detergent for Wafer
■ Semiconductor(반도체) & Solar Wafer 세정제
용도 : 알칼리성 세정제 PLC series는 반도체/Solar/화합물에서 Sliced Wafer 의 Cleaning에 사용됨,
Sawing후의 Cleaning공정에서 Wafer Surface에 부착된 Slicing Oil, Si Debris, Inorganic Abrasive의 제거를 위해 사용됨.

특징 :
1) Wafer표면의 유기 ·무기 오염물을 매우 효과적으로 제거
2) 거품의 발생이 적으면 안정적임
3) Rinse로 쉽게 세정제 씻겨 나감
4) 고효율을 위한 Surface texturing에 최적화되어 있음
5) Etching시 균일한 Pyramid형성을 통한 광전효율의 극대화
6) 낮은 Reflective Index
[Specification]
* TSC : Total Solid Contents
Appearance

Transparent

Liquid

Macrography
pH 11.8 ~ 12.825 , 5% solution

Specific 

Gravity

1.056 ~ 1.096 25℃
TSC(%)>10 105℃ , 2h
Cloud point(℃)60 ~ 65 5% sol’n
[ 세정제의 장점]