Chemical Filter for Cleanroom
· 반도체/ 반도체 등 Clean room에서 공기의 양이온(염기)/음이온(산)/유기물질/Dopant등의 유해가스를 제거.

적용분야 - 반도체/Solar/화합물 등의 결정성장용 Growing 공정, Dust 발생 공정

장점 -
1) 향상된 제거능력 (음이온, Cl·, SO42·, NO2·, NO3·, CH3COO·, NH4+,B,P, H2S, Cl2,O3, Metal 등)
음이온,양이온, Dopant(B,P),유기화합물,Ozone,H2S,일부Metal제거 가능
기존 제품(양이온, NH3, 유기물 제거) 대비 확장된 Filter능력을 가짐
2) Chemical filter의 뛰어난 기술
경시변화에 따른 양이온 음이온 유기물의 제거 능력이 탁월함
中비점(Middle boiling point), 高비점의 유기물 제거 능력이 탁월함
유수의 반도체/Si Wafer Maker에서 까다로운 평가를 거쳐 반도체회사에 사용中
3) Media의 3차원 Cell Structure 입체구조
3차원 Cell Structure로 통기성 향상으로 압력손실이 낮으며, 두께가 얇아 협소공간 배치 가능
3D구조에 이온교환수지 활성탄의 충진으로 장시간 사용가능


-Filter Model/Media Photo-
[PLS*]
[CS*]
[MTCS*]
[PL*]
[3D Cell Structure]
[ Media종류별 제거 대상 가스 ]
Target 가스Media 종류Media 기호제거원리
산성 Gas
HF, HCl, H2SO4, HNO3, etch
Ion교환수지A이온교환
산성 Gasᆞ황화수소
HF, HCl, H2SO4, HNO3, H2S, etc
활성탄Ka첨착(添着)약품과의 화학반응 + 물리흡착
알칼리 Gas
NH3, Ammine
Ion교환수지C이온교환
유기물활성탄K물리흡착
[ Specification ]
Filter ModelPLS-*CS-*MTCS-*PL-*
Media Type C A Ka K C A Ka K C A Ka K S
Typical
Removal
Component
Cl-
SO42-
NO2-
NO3-
CH3COOH-
NH4+
Trimethylamine
Organic Compound
Boron
H2S
Cl2
O3
Metal